半导体冲洗水
AMI 针对微电子和半导体冲洗水的水处理解决方案可去除污染物、矿物质、微生物和微量化学物质，以生产出满足制造过程中严格纯度水平要求的超纯水 (UPW)。
半导体芯片制造工艺和制造工厂几乎每一步都需要超纯水。这些晶圆厂每天要使用数百万加仑的水来冲洗、清洁和处理晶圆。合理的水处理设计和水回用有助于控制用水量并实现更可持续的运营。
要将原水处理至半导体制造所需的纯度水平，需要采用一系列先进的工艺和水处理技术，去除其中的污染物、矿物质、微生物以及微量有机和无机化学物质，包括其他纳米级颗粒。AMI 半导体漂洗水系统旨在生产用于清洁和蚀刻工艺的超纯水 (UPW)，并在整个制造周期内用于清洗和漂洗半导体部件。
工业生产过程中产生的盐水可以经过处理后再利用，无需排放，从而减少水资源浪费。这些盐水中可能含有有价值的矿物和金属，可以进一步浓缩和回收。
要将原水处理至半导体制造所需的纯度水平，需要采用一系列先进的工艺和水处理技术，去除其中的污染物、矿物质、微生物以及微量有机和无机化学物质，包括其他纳米级颗粒。AMI 半导体漂洗水系统旨在生产用于清洁和蚀刻工艺的超纯水 (UPW)，并在整个制造周期内用于清洗和漂洗半导体部件。
工业生产过程中产生的盐水可以经过处理后再利用，无需排放，从而减少水资源浪费。这些盐水中可能含有有价值的矿物和金属，可以进一步浓缩和回收。
AMI 在全球微电子和半导体行业拥有众多超纯水处理和高回收率系统。我们的成功安装案例包括华粤微电子等众多企业。
Benefits
超纯水处理系统对微电子制造的优势
- 生产用于微电子制造的超纯水
- 可靠运行，增加正常运行时间。
- 经过精心设计，确保长期可靠性。
- 经过工厂测试，确保无故障运行
- 微处理器控制操作
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Experience: 半导体冲洗水
用于微芯片制造的超纯水系统
| Flow Rate (M³/Day) | 1,635 |
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| Flow Rate (LPM) | 1,136 |
| Flow Rate (GPM) | 300 |
AMI 定制水处理系统，为中国华粤微电子公司微芯片制造提供用于冲洗的超纯水。该系统包含两道反渗透和微滤系统，并配有预处理、臭氧、脱气器、紫外线消毒器和混床去离子器。